特許

J-GLOBAL ID：201003089220871450

平面形状測定装置

発明者： 葛 宗涛
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-074164
公開番号（公開出願番号）：特開2010-223897
出願日： 2009年03月25日
公開日（公表日）： 2010年10月07日
要約：

【課題】平面状の大型被検面の形状を短時間で高精度に測定できるようにする。【解決手段】回転角度が順次変動する被検面80に第1の光束が照射される期間、第1の光束と第2の光束との仮想光路長差を回転角度の変動に応じて周期的に変動させる。この変動期間内において、第1の光束と第2の光束との干渉光を1次元イメージセンサ26により順次受光し、受光した干渉光の光強度を1次元イメージセンサ26の画素毎にそれぞれ検出する。この光強度が最大となる各時点に対応した回転角度および仮想光路長差の各値に基づき被検面80の形状情報を求める。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

平面状の被検面の形状を測定する平面形状測定装置であって、 低可干渉光源からの出力光を光束分離面において第1の光束と第2の光束とに分離し、該第1の光束を前記被検面に照射するとともに該第2の光束を参照面に照射し、該被検面から反射された該第1の光束と該参照面から反射された該第2の光束とを合波して干渉光を得る干渉光学系と、 前記干渉光により得られる干渉縞を結像させる結像系と、 前記干渉縞の結像面上に配置された1次元イメージセンサと、 前記被検面に対し平行かつ前記干渉光学系の光軸に対し垂直な方向への、該被検面の該干渉光学系に対する相対位置を順次変動せしめる相対位置変動手段と、 前記干渉光学系に対して前記相対位置が変動する前記被検面に前記第1の光束が照射される期間内において、該被検面が光学平面であると仮想した場合における該第1の光束と前記第2の光束との仮想光路長差を前記相対位置の変動に応じて周期的に変動せしめる仮想光路長差変動手段と、 前記仮想光路長差が周期的に変動される期間内において、前記干渉光を前記1次元イメージセンサにより順次受光せしめ、受光された該干渉光の光強度を該1次元イメージセンサの画素毎にそれぞれ検出する干渉光強度検出手段と、 前記画素毎に検出された前記干渉光の光強度の変動状況に基づき、該光強度が該光強度の各変動期間内で最大となる各時点に対応した前記相対位置の各値を、各光強度最大時相対位置値として該画素毎にそれぞれ求める光強度最大時相対位置値算出手段と、 前記相対位置が前記各光強度最大時相対位置値となる各時点における前記仮想光路長差の各値を、各光強度最大時仮想光路長差値として前記画素毎にそれぞれ求める光強度最大時仮想光路長差値検出手段と、 前記画素毎に求められた前記各光強度最大時仮想光路長差値に基づき前記被検面の形状情報を求める形状解析手段と、を備えてなることを特徴とする平面形状測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/24 ,  G01B 9/02

FI (2件)：

G01B11/24 D ,  G01B9/02

Fターム (44件)：

2F064AA09 ,  2F064CC10 ,  2F064EE01 ,  2F064EE05 ,  2F064EE10 ,  2F064FF03 ,  2F064FF07 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG44 ,  2F064GG52 ,  2F064GG64 ,  2F064HH02 ,  2F064HH03 ,  2F064HH07 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F065AA53 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF17 ,  2F065FF52 ,  2F065FF67 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG07 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL16 ,  2F065MM03 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13