特許

J-GLOBAL ID：201003089264914393

成膜方法および半導体装置の製造方法

発明者： 河野 基之
出願人/特許権者： エルピーダメモリ株式会社
代理人 (3件)： 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-102066
公開番号（公開出願番号）：特開2010-251654
出願日： 2009年04月20日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】誘電率が低くかつエッチング耐性に優れた窒化シリコン系絶縁膜を形成する。【解決手段】基材上にシラン系ガス(DCS)、窒化性ガス(NH3)及びホウ素含有ガス(BCl3)を、N2パージを逐次行いながらこの順で供給してホウ素含有窒化シリコン層を形成する工程と、このホウ素含有窒化シリコン層に、プラズマにより活性化された窒化性ガス(活性化NH3)を供給する工程とを含み、これらの工程をこの順で繰り返し行う成膜方法。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基材上にシラン系ガス、窒化性ガス及びホウ素含有ガスをこの順で供給してホウ素含有窒化シリコン層を形成する工程と、該ホウ素含有窒化シリコン層に、プラズマにより活性化された窒化性ガスを供給する工程とを含み、これらの工程をこの順で繰り返し行う成膜方法。

IPC (9件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/314 ,  H01L 21/318 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/108 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/768

FI (9件)：

H01L21/31 C ,  H01L21/314 A ,  H01L21/318 B ,  C23C16/42 ,  C23C16/505 ,  H01L27/10 621C ,  H01L27/10 681B ,  H01L21/205 ,  H01L21/90 P

Fターム (119件)：

4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030BA26 ,  4K030BA29 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA02 ,  4K030DA03 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030GA04 ,  4K030HA01 ,  4K030HA04 ,  4K030KA04 ,  4K030LA15 ,  5F033HH04 ,  5F033HH19 ,  5F033HH28 ,  5F033JJ04 ,  5F033JJ18 ,  5F033JJ19 ,  5F033JJ33 ,  5F033KK01 ,  5F033KK04 ,  5F033LL04 ,  5F033MM05 ,  5F033NN06 ,  5F033NN07 ,  5F033NN32 ,  5F033PP06 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ12 ,  5F033QQ28 ,  5F033QQ31 ,  5F033QQ37 ,  5F033QQ48 ,  5F033QQ90 ,  5F033QQ91 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033RR12 ,  5F033SS02 ,  5F033SS13 ,  5F033SS15 ,  5F033TT02 ,  5F033TT08 ,  5F033VV06 ,  5F033VV16 ,  5F033XX10 ,  5F033XX24 ,  5F045AA08 ,  5F045AA15 ,  5F045AB31 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC05 ,  5F045AC12 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AD12 ,  5F045AE19 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AF01 ,  5F045AF10 ,  5F045BB14 ,  5F045BB16 ,  5F045BB17 ,  5F045CA05 ,  5F045CB05 ,  5F045DC57 ,  5F045DC63 ,  5F045DC66 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045EE19 ,  5F045EF03 ,  5F045EF08 ,  5F045EH18 ,  5F045EK06 ,  5F058BA08 ,  5F058BB10 ,  5F058BC08 ,  5F058BC10 ,  5F058BD10 ,  5F058BD13 ,  5F058BF04 ,  5F058BF07 ,  5F058BF23 ,  5F058BF24 ,  5F058BF30 ,  5F058BF32 ,  5F058BF37 ,  5F058BG01 ,  5F058BJ02 ,  5F083AD24 ,  5F083AD48 ,  5F083AD49 ,  5F083GA02 ,  5F083JA02 ,  5F083JA06 ,  5F083JA35 ,  5F083JA39 ,  5F083JA40 ,  5F083JA53 ,  5F083JA56 ,  5F083KA05 ,  5F083MA03 ,  5F083MA06 ,  5F083MA17 ,  5F083MA20 ,  5F083NA01 ,  5F083PR21