特許

J-GLOBAL ID：201003089515516678

表面位置の測定装置、露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 前田 浩平
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-122562
公開番号（公開出願番号）：特開2010-272655
出願日： 2009年05月20日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：

【課題】 干渉光の強度のピーク及びコントラストを最適化し、高速かつ高精度に被測定物の表面位置を測定できる測定装置を提供する。【解決手段】 本発明は、光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、測定光の光量を検出する検出部と、参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、を備える。【選択図】 図15

請求項（抜粋）：

光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、 測定光の光量を検出する検出部と、 参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、 を備えることを特徴とする測定装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/207 ,  G01B 11/00 ,  G01B 9/02

FI (4件)：

H01L21/30 526B ,  G03F7/207 H ,  G01B11/00 G ,  G01B9/02

Fターム (59件)：

2F064AA01 ,  2F064AA15 ,  2F064BB01 ,  2F064CC02 ,  2F064CC10 ,  2F064EE01 ,  2F064FF03 ,  2F064FF07 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG41 ,  2F064GG44 ,  2F064GG53 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ03 ,  2F064JJ15 ,  2F065AA02 ,  2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065AA53 ,  2F065BB01 ,  2F065CC19 ,  2F065DD09 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF52 ,  2F065FF55 ,  2F065GG02 ,  2F065GG07 ,  2F065HH04 ,  2F065HH10 ,  2F065HH12 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL12 ,  2F065LL28 ,  2F065LL30 ,  2F065LL42 ,  2F065LL59 ,  2F065MM03 ,  2F065NN02 ,  2F065NN17 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ29 ,  5F046BA03 ,  5F046CB06 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10 ,  5F046FA09 ,  5F046FB06