特許
J-GLOBAL ID：201003089680153598

真空処理装置

発明者：
佐々木 芳彦

佐々木 芳彦 について

, 
田中 善嗣

田中 善嗣 について

, 
石田 寛

石田 寛 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-166403
公開番号（公開出願番号）：特開2010-010302
出願日： 2008年06月25日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：
【課題】容器本体の上部開口部を塞ぐ蓋体を開いて処理容器に対して被処理体の搬入出を行うにあたり、処理容器内への水分やパーティクルの混入量を低減すること。【解決手段】内部に被処理体をなす基板Sの載置台3を備えた容器本体21と、この容器本体21の上部開口部を塞ぐ蓋体22とにより構成された処理容器20において、前記基板Sを処理容器20に対して搬入あるいは搬出するために蓋体22と容器本体21との間に隙間を形成したときに、少なくとも基板Sの搬入出領域を除いた領域において前記隙間を覆うように、処理容器20の外周面に周方向に沿ってカバー部材5を設ける。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部に被処理体の載置台を備えた容器本体と、この容器本体の上部開口部を塞ぐ蓋体とにより構成された処理容器と、 前記蓋体と容器本体との間に、前記被処理体を処理容器に対して搬入あるいは搬出するための隙間を形成するために、前記蓋体を容器本体に対して相対的に昇降させる昇降機構と、 前記処理容器内を真空排気するための真空排気手段と、 前記被処理体を処理容器に対して搬入あるいは搬出するために蓋体と容器本体との間に隙間を形成したときに、少なくとも被処理体の搬入出領域を除いた領域において前記隙間を覆うように処理容器の外周面に周方向に沿って設けられたカバー部材と、を備えたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (1件)：
H01L21/302 101B
Fターム (10件)：
5F004AA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BC01 ,  5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004DA00 ,  5F004DA26
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM