特許

J-GLOBAL ID：201003090716219220

基板処理装置

発明者： 米林 亨
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 特許業務法人アイ・ピー・エス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-330378
公開番号（公開出願番号）：特開2010-153602
出願日： 2008年12月25日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：

【課題】サンプリングバルブを開いたまま濃度チェックのリトライを行えるようにしてできる限り装置を停止させないようにすることで、装置の稼働率向上可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】複数のステップから構成されるレシピの作成を行うための操作画面と、この操作画面を有する表示部と、レシピを実行して基板を処理する制御部とを有し、レシピは、複数の基板を保持した状態で基板保持具を処理炉内に搬入する工程と、処理炉内で前記複数の基板を処理するために準備する第1の準備工程と、基板に所定の処理を施す工程と、処理後に前記基板保持具を搬出するために準備する第2の準備工程と、基板保持具を処理炉内より搬出する工程と、を有し、第1の準備工程では、基板を処理する際に使用される第1のガスと化学反応を起す第2のガスの濃度を検知し、第2の準備工程では、基板を処理する際に使用される第1のガスの濃度を検知する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

複数のステップから構成されるレシピの作成を行うための操作画面と、この操作画面を有する表示部と、前記レシピを実行して基板を処理する制御部とを有し、 前記レシピは、 複数の基板を保持した状態で基板保持具を処理炉内に搬入する工程と、 前記処理炉内で前記複数の基板を処理するために準備する第1の準備工程と、 前記基板に所定の処理を施す工程と、 前記処理後に前記基板保持具を搬出するために準備する第2の準備工程と、 前記基板保持具を処理炉内より搬出する工程と、を有し、 前記第1の準備工程では、基板を処理する際に使用される第1のガスと化学反応を起す第2のガスの濃度を検知し、 前記第2の準備工程では、基板を処理する際に使用される第1のガスの濃度を検知する基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/22

FI (3件)：

H01L21/31 B ,  H01L21/31 E ,  H01L21/22 511Q

Fターム (8件)：

5F045AA03 ,  5F045AA20 ,  5F045AC11 ,  5F045AF03 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DQ05 ,  5F045GB07