特許

J-GLOBAL ID：201003091399796409

誘電体膜の製造方法及び圧電体素子の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法

発明者： 鳥本 達朗 ,  角 浩二
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-075926
公開番号（公開出願番号）：特開2010-232271
出願日： 2009年03月26日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：

【課題】 二次粒子の影響をなくした状態で基板に原料液を塗布して薄膜を形成する。【解決手段】 メッシュ部材67により、ノズル(配管65aを含む概念のノズル)により与える剪断応力よりも大きい剪断応力をノズル65と基板64の間でゾルに与え、ゾルに生じた二次粒子を基板64の直前で破壊した状態でゾルを基板64に塗布する。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

原料液をワーク上に塗布して焼成することで誘電体膜を製造する方法であって、 前記原料液をノズルから噴出させる際の前記ワークへの塗布前に、前記ノズルにより与える剪断応力よりも大きい剪断応力を前記原料液に与えた後、前記ワークに前記原料液を塗布する ことを特徴とする誘電体膜の製造方法。

IPC (8件)：

H01L 41/22 ,  B41J 2/16 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/24 ,  H01L 41/09 ,  H01L 21/316 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055

FI (8件)：

H01L41/22 Z ,  B41J3/04 103H ,  H01L41/18 101Z ,  H01L41/22 A ,  H01L41/08 L ,  H01L41/08 C ,  H01L21/316 B ,  B41J3/04 103A

Fターム (13件)：

2C057AF93 ,  2C057AP02 ,  2C057AP14 ,  2C057AP57 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14 ,  5F058BA06 ,  5F058BC03 ,  5F058BC04 ,  5F058BF46 ,  5F058BH03 ,  5F058BJ04