特許
J-GLOBAL ID：201003092078795563
測定方法、解析方法、測定装置、及びコンピュータプログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
河野 登夫
, 河野 英仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-211114
公開番号（公開出願番号）：特開2010-281838
出願日： 2010年09月21日
公開日（公表日）： 2010年12月16日
要約：
【課題】解析に要する時間と解析精度とをバランス良く両立させる。【解決手段】エリプソメータ1は試料Sのいずれかのポイントに対し第1分光器8及び第2分光器9で測定を行う。第1分光器8の測定結果を用いて解析を行うと共に第2分光器9の測定結果を用いて解析を行い、第2分光器9に係る解析結果を第1分光器8に係る解析結果へ近似する近似式を算出する。試料Sの残りのポイントに対しては、第2分光器9で測定を行い、その結果を用いた解析の結果を近似式に基づき補正する。第2分光器9は第1分光器8に比べて測定精度は低いが測定時間が短いため全体の測定時間は短くなり、また、第2分光器9に係る解析結果を補正するため解析精度は向上する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複数の方式で測定することが可能な測定装置により同一被測定材の複数箇所に対して被測定材の物性を測定する測定方法であって、
被測定材のいずれかの箇所に対して第1ラマン分光装置を用いて測定を行う第1ステップと、
前記いずれかの箇所に対して前記第1ステップに係る前記第1ラマン分光装置を用いた測定に比べて、レーザ光の状態を調整することにより短時間で測定することが可能な第2ラマン分光装置を用いた方式で測定を行う第2ステップと、
該第2ステップの測定結果を前記第1ステップの測定結果へ近似する近似式を算出する第3ステップと、
残りの箇所に対して前記第2ステップに係る方式で測定を行う第4ステップと、
該第4ステップの測定結果を前記近似式に基づき補正する第5ステップと
を備えることを特徴とする測定方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (30件)：
2G043AA03
, 2G043CA07
, 2G043DA05
, 2G043EA03
, 2G043EA15
, 2G043HA05
, 2G043HA07
, 2G043JA04
, 2G043KA09
, 2G043LA02
, 2G043LA03
, 2G043NA01
, 2G059AA02
, 2G059AA03
, 2G059BB10
, 2G059EE02
, 2G059EE03
, 2G059EE05
, 2G059EE12
, 2G059FF01
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059JJ05
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059KK02
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM09
, 2G059MM10
