ナノインプリント用モールド

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：長谷川芳樹 , 黒木義樹 , 清水義憲 , 沖田英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-246101
公開番号（公開出願番号）：特開2010-076211
出願日： 2008年09月25日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】転写用の凹凸面の面積が大きい場合であっても、つなぎ目を設けることなく容易に製造されることが可能なナノインプリント用モールドを提供すること。【解決手段】液晶性ポリシランを含有し、該液晶性ポリシランが配向してスメクチック相を形成することによって形成された凹凸面を有する、ナノインプリント用モールド。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液晶性ポリシランを含有し、該液晶性ポリシランが配向してスメクチック相を形成することによって形成された凹凸面を有する、ナノインプリント用モールド。

IPC (3件)：

B29C 59/02 , B29C 33/40 , H01L 21/027

FI (3件)：

B29C59/02 B , B29C33/40 , H01L21/30 502D

Fターム (28件)：

4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AJ02 , 4F202AJ03 , 4F202AJ06 , 4F202AJ09 , 4F202CA19 , 4F202CD01 , 4F202CD23 , 4F202CK11 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AJ02 , 4F209AJ03 , 4F209AJ06 , 4F209AJ08 , 4F209AJ09 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 5F046AA28 , 5F046CB18

引用特許：

審査官引用 (5件)

高分子液晶材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-203161 出願人：独立行政法人科学技術振興機構, 国立大学法人奈良先端科学技術大学院大学
ポリシラン及びそれを用いた高分子液晶材料
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-037039 出願人：奈良先端科学技術大学院大学長
高分子の配向制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-203152 出願人：国立大学法人奈良先端科学技術大学院大学

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