特許
J-GLOBAL ID：201003092339730910
二酸化炭素を利用したメタンガスの生産方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
村瀬 一美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-064750
公開番号（公開出願番号）：特開2010-239962
出願日： 2010年03月19日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：
【課題】メタンハイドレート層に依存することなく、二酸化炭素の固定化とメタンガスの生産とを両立して行う。【解決手段】メタン生成細菌がメタンガスを生成する温度・圧力条件下の地層1の間隙22に、メタン生成細菌を少なくとも含む微生物群を添加してメタンガス生産層4を形成する工程と、メタンガス生産層4よりも浅部で、且つ二酸化炭素がハイドレートとなる温度・圧力条件下の地層1の間隙22に、この間隙22よりも小さな液体二酸化炭素12aの微粒子23を水24に分散させたエマルジョン20を注入して二酸化炭素ハイドレート21のシール層2を形成する工程と、メタンガス生産層4とシール層2との間の地層1の間隙22に、メタンガス生成原料としての液体二酸化炭素3を注入する工程と、メタンガス生産層4で生成されたメタンガス5を地上に回収する工程とを含むようにした。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
メタン生成細菌がメタンガスを生成する温度・圧力条件下の地層の間隙に、前記メタン生成細菌を少なくとも含む微生物群を添加してメタンガス生産層を形成する工程と、
前記メタンガス生産層よりも浅部で、且つ二酸化炭素がハイドレートとなる温度・圧力条件下の地層の間隙に、前記間隙よりも小さな液体二酸化炭素の微粒子を水に分散させたエマルジョンを注入して二酸化炭素ハイドレートのシール層を形成する工程と、
前記メタンガス生産層と前記シール層との間の地層の間隙に、メタンガス生成原料としての液体二酸化炭素を注入する工程と、
前記メタンガス生産層で生成された前記メタンガスを地上に回収する工程と、
を含むことを特徴とする二酸化炭素を利用したメタンガスの生産方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
4B064AB03
, 4B064CA02
, 4B064CC05
, 4B064CC06
, 4B064CD01
, 4B064DA16
, 4G075AA03
, 4G075AA04
, 4G075BA10
, 4G075BB08
, 4G075CA73
, 4G075DA01
, 4G075DA04
, 4G075DA13
審査官引用 (3件)
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Enviromental Geoscience, 2001, Vol.8,No.3, p218-224
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Enviromental Geoscience, 2001, Vol.8,No.3, p218-224
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日本機械化学会2003年度年次大会講演論文集(III), 2003, Vol.3, p301-302
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