特許
J-GLOBAL ID：201003093097848259
細胞培養基板、その製造方法、細胞培養方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
平木 祐輔
, 関谷 三男
, 渡辺 敏章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-239786
公開番号（公開出願番号）：特開2010-068755
出願日： 2008年09月18日
公開日（公表日）： 2010年04月02日
要約：
【課題】透明フッ素系樹脂基板に簡便な表面処理を施すことによって細胞培養に適した培養基板を得る。【解決手段】屈折率1.33以上1.34以下の可視光領域において透明なフッ素系樹脂基板21を酸素を含有しない雰囲気中に保持し、基板表面にF2レーザーのレーザー光をアブレーション閾値以下のレーザーフルエンスで照射して親水性を付与する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
可視光領域において透明な屈折率1.33以上1.34以下のフッ素系樹脂からなり、
レーザーフルエンスがアブレーション閾値以下の紫外線レーザー照射によって、表面に親水性領域が形成されたことを特徴とする細胞培養基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4B029AA02
, 4B029AA08
, 4B029AA21
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029CC08
, 4B029FA01
, 4B029GB06
, 4B029GB09
, 4B065AA90X
, 4B065BC41
, 4B065CA46
審査官引用 (1件)
-
応用物理学会学術講演会講演予稿集,Vol.69th,No.3,p.1165,2008年9月2日発行
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