パターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小島清路 , 萩野義昇 , 谷口直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-180658
公開番号（公開出願番号）：特開2010-020109
出願日： 2008年07月10日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：

【課題】基板に形成されたレジストパターンとミキシングすることがなく、このパターン間に良好に埋め込むことができ、且つパターンとの密着性に優れると共に、酸素アッシング耐性及び保存安定性に優れるパターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法を提供する。【解決手段】パターン反転用樹脂組成物は、被加工基板上にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンのパターン間にパターン反転用樹脂組成物を埋め込む工程と、レジストパターンを除去し、反転パターンを形成する工程と、を備える反転パターン形成方法において用いられるものであって、特定のアクリロイルオキシアルキル基を有する構成単位を含むポリシロキサンと、有機溶剤と、を含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

〔1〕被加工基板上にフォトレジストパターンを形成する工程と、〔2〕前記フォトレジストパターンのパターン間にパターン反転用樹脂組成物を埋め込む工程と、〔3〕前記フォトレジストパターンを除去し、反転パターンを形成する工程と、を備える反転パターン形成方法において用いられるパターン反転用樹脂組成物であって、ポリシロキサンと、有機溶剤と、を含有しており、前記ポリシロキサンは、下記式(1)で表される構成単位と、下記式(2)で表される構成単位と、を含むことを特徴とするパターン反転用樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/40 , H01L 21/027 , C08G 77/20 , C08F 299/08

FI (4件)：

G03F7/40 511 , H01L21/30 570 , C08G77/20 , C08F299/08

Fターム (47件)：

2H096AA25 , 2H096HA05 , 4J127AA03 , 4J127AA06 , 4J127BB041 , 4J127BB091 , 4J127BB221 , 4J127BC061 , 4J127BC151 , 4J127BD321 , 4J127BD331 , 4J127BE59Y , 4J127BE591 , 4J127BF71Y , 4J127BF711 , 4J127BF72Y , 4J127BF721 , 4J127BG05Y , 4J127BG051 , 4J127BG17Y , 4J127BG171 , 4J127BG38Y , 4J127BG381 , 4J127CA01 , 4J127FA17 , 4J246AA03 , 4J246BA23X , 4J246BA230 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246CA24X , 4J246CA240 , 4J246CA27X , 4J246CA270 , 4J246CA65X , 4J246CA650 , 4J246FA071 , 4J246FA081 , 4J246FA131 , 4J246FA431 , 4J246GB04 , 4J246GC07 , 4J246GC37 , 4J246GD08 , 4J246HA15 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-294981 出願人：株式会社東芝

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