特許
J-GLOBAL ID：201003094398282095
抗原処理物付着担体の製造方法および抗原処理物付着担体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
増田 達哉
, 朝比 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-176058
公開番号（公開出願番号）：特開2010-014613
出願日： 2008年07月04日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：
【課題】検体中の抗体を、抗原抗体反応を利用して高感度に検出し得る抗原処理物付着担体の製造方法、および、かかる抗原処理物付着担体の製造方法で製造された抗原処理物付着担体を提供すること。【解決手段】本発明の抗原処理物付着担体の製造方法は、抗原処理物21がウェル12の底面に担持された抗原処理物付着担体1を得るに際し、抗原処理物21の前記底面への担持に前後して、界面活性剤を含有する処理液で抗原を処理して、前記抗原が有する抗体認識部位を前記処理前よりも多く露出した状態の抗原処理物21とする。また、抗原処理物21を前記底面に担持した後に、ウェル12の抗原処理物が付着していない領域に、抗体との相互作用がウェル12の内面より低いタンパク質を主材料として構成される被覆層31を形成するのが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
抗原処理物が基材に担持された抗原処理物付着担体を得るに際し、
前記抗原処理物の基材への担持に前後して、界面活性剤を含有する処理液で抗原を処理して、前記抗原が有する抗体認識部位を前記処理前よりも多く露出した状態の前記抗原処理物とすることを特徴とする抗原処理物付着担体の製造方法。
IPC (3件)：
G01N 33/543
, G01N 33/53
, G01N 33/545
G01N33/543 525G
, G01N33/53 N
, G01N33/543 521
, G01N33/545 A
, G01N33/543 515J
