特許

J-GLOBAL ID：201003095537235028

粒子線治療装置

発明者： 藤高 伸一郎 ,  野田 文章 ,  平本 和夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-052796
公開番号（公開出願番号）：特開2010-201099
出願日： 2009年03月06日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：

【課題】患部を複数の層に分割し、各層を荷電粒子ビームのエネルギーを変えながら照射していく照射法において、浅い層では照射する粒子数は少なくなる。従来は浅い層では加速器で加速した荷電粒子ビームのうち、ある層を照射した残りの粒子は減速することにより廃棄して利用されることはなかった。また、加速器の一運転周期で取り出し可能なエネルギーは一種類であり、一層のみを照射していた。【解決手段】粒子数の少ない浅い部分に位置する層では、エネルギー吸収体をシンクロトロン加速器の出口近傍、あるいはビーム輸送系の途中、あるいは照射ノズル内部に設置し、エネルギー吸収体の厚さを変えることにより、加速器のある運転周期において簡便に複数エネルギーの粒子ビームを照射することを可能とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを加速する加速器と、 加速された前記荷電粒子ビームを照射ノズルに輸送するビーム輸送系と、 照射野を形成し、前記荷電粒子ビームを照射する照射ノズルを備える粒子線治療装置であって、 前記加速器ならびに前記ビーム輸送系の制御と荷電粒子ビーム通過経路に設置したエネルギー吸収体の厚さを変更することにより前記荷電粒子ビームのエネルギーを変更させ、前記加速器のある一運転周期中において前記エネルギー吸収体の厚さを変化させることにより、前記運転周期中に複数エネルギーの荷電粒子ビームを照射ノズルから出射することを特徴とする粒子線治療装置。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (1件)：

A61N5/10 N

Fターム (3件)：

4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG42