特許
J-GLOBAL ID：201003095920459320

吸引型プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法

発明者：
新堀 俊一郎

新堀 俊一郎 について

, 
横須賀 俊太郎

横須賀 俊太郎 について

, 
白山 裕也

白山 裕也 について


出願人/特許権者：
株式会社三友製作所

株式会社三友製作所 について


代理人 (2件)： 田中 宏 ,  樋口 榮四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-215159
公開番号（公開出願番号）：特開2010-153783
出願日： 2009年09月17日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：
【課題】吸引型のプラズマガン搭載型プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法を提供する。【解決手段】キャピラリー3とプラズマ発生用電極4を具備したプラズマガン2のキャピラリー先端部6が密閉容器1内に配設されてなり、前記プラズマガン2の密閉容器1外にある端部には排気装置7が連結されており、また、前記密閉容器1にはガス導入部8が設けられており、該ガス導入部8には反応性原料ガス供給ユニット9が連結されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
容器内に試料台を有し、ガス導入部が設けられている密閉容器と、キャピラリーと、該キャピラリーを囲繞するプラズマ発生用電極を具備したプラズマガンとからなる吸引型プラズマエッチング装置であって、前記キャピラリーの少なくとも先端部は前記密閉容器内に配設され、試料台上に載置されるエッチング対象物に対向して設置される構造であり、前記キャピラリーの後部端部は前記密閉容器外に設置された排気装置と連結されており、ガス導入部から前記密閉容器内に導入された反応用原料ガスを前記キャピラリーの先端開口部から吸引するようにした構造であることを特徴とする吸引型プラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H05H 1/46
FI (2件)：
H01L21/302 101E ,  H05H1/46 L
Fターム (10件)：
5F004AA02 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BD07 ,  5F004DA01 ,  5F004DB01 ,  5F004DB03 ,  5F004DB08 ,  5F004DB25
引用特許：
審査官引用 (10件)
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