特許

J-GLOBAL ID：201003096390261822

粒子線照射装置及び粒子線照射方法

発明者： 岡崎 隆司 ,  藤高 伸一郎 ,  藤本 林太郎 ,  藤井 祐介 ,  高柳 泰介
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-333254
公開番号（公開出願番号）：特開2010-148833
出願日： 2008年12月26日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：

【課題】粒子ビームの径が小さい照射において、線量分布一様度の劣化を防止できる粒子線照射装置及び粒子線照射方法を提供することにある。【解決手段】粒子線治療装置は、粒子線を標的領域に照射する粒子線照射装置5と、加速器2と、それらをつなぐ輸送系3とからなる。患部位置における患部サイズの高線量領域の形成する際に、患部サイズの高線量領域を複数の小サイズの高線量領域に分割して行う。エネルギー分布拡大装置部15は、小サイズの高線量領域を形成する際に用いられ、小サイズの高線量領域に対して、さらに分割されたサイズの高量領域を形成する。レンジシフタ16Bは、エネルギー分布拡大装置部15による照射に際し、粒子線の飛程を変える。レンジシフタ16Bにより飛程を変える毎にビーム照射して、複数回のビーム照射により小サイズの高量領域を形成する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

粒子線を標的領域に照射する粒子線照射装置と、加速器と、それらをつなぐ輸送系とからなり、患部位置における患部サイズの高線量領域の形成する際に、患部サイズの高線量領域を複数の小サイズの高線量領域に分割して行う粒子線治療装置であって、 前記小サイズの高線量領域を形成する際に用いられ、前記小サイズの高線量領域に対して、さらに分割されたサイズの高線量領域を形成するエネルギー分布拡大手段と、

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (2件)：

A61N5/10 N ,  A61N5/10 H

Fターム (6件)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG34 ,  4C082AP03 ,  4C082AP16