特許

J-GLOBAL ID：201003096454446660

透明導電性基板、色素増感型太陽電池用透明導電性基板及び透明導電性基板の製造方法

発明者： 柿原 康男 ,  鈴木 教一
出願人/特許権者： 戸田工業株式会社 ,  フジコピアン株式会社
代理人 (1件)： 専徳院 博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-027816
公開番号（公開出願番号）：特開2010-179642
出願日： 2009年02月09日
公開日（公表日）： 2010年08月19日
要約：

【課題】低抵抗で透明性に優れる、第一導電性層、透明性の高い接着層及び第二導電性層を有する透明導電性基板及び該透明導電性基板を安価に製造可能な製造方法を提供する。【解決手段】金属微粒子分散溶液を基材2上に塗布し乾燥させ、網目状の第一導電性層3を基材2上に形成させた後、第一導電性層3を透明性の高い接着層7で完全に覆い、前記基材2と被転写基板8とを貼り合せた後、熱転写して基材2を剥離する。これにより第一導電性層3と接着層7が一体的に被転写基板8に熱転写させる。その後、熱転写された転写層10の表面14に導電性樹脂を含む樹脂を塗布し、第一導電性層3と接続する第二導電性層5を形成する。これにより低抵抗で透明性に優れる透明導電性基板20が得られる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明導電性基板の製造方法において、下記の1から4の製造工程にて製造することを特徴とする透明導電性基板の製造方法。

IPC (7件)：

B32B 38/00 ,  H01M 14/00 ,  H01B 13/00 ,  H01B 5/14 ,  B32B 27/18 ,  H01L 31/04 ,  B32B 15/08

FI (8件)：

B32B31/12 ,  H01M14/00 P ,  H01B13/00 503B ,  H01B13/00 503C ,  H01B5/14 A ,  B32B27/18 J ,  H01L31/04 Z ,  B32B15/08 K

Fターム (58件)：

4F100AB01B ,  4F100AB24 ,  4F100AK25C ,  4F100AK41C ,  4F100AK80 ,  4F100AR00C ,  4F100AR00E ,  4F100AT00A ,  4F100AT00D ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100BA33B ,  4F100CB00C ,  4F100DE01B ,  4F100EH46B ,  4F100EJ17D ,  4F100EJ42B ,  4F100EJ42D ,  4F100EJ54B ,  4F100EJ86B ,  4F100GB90 ,  4F100JB07E ,  4F100JG01E ,  4F100JG04 ,  4F100JN01C ,  5F051AA20 ,  5F051GA02 ,  5F151AA20 ,  5F151GA02 ,  5G307FA02 ,  5G307FB02 ,  5G307FB03 ,  5G307FC09 ,  5G307FC10 ,  5G323BA01 ,  5G323BA05 ,  5G323BB01 ,  5G323BB02 ,  5G323BC02 ,  5G323BC03 ,  5H032AA06 ,  5H032AS06 ,  5H032AS16 ,  5H032AS19 ,  5H032BB02 ,  5H032BB04 ,  5H032BB05 ,  5H032BB07 ,  5H032CC16 ,  5H032EE01 ,  5H032EE07 ,  5H032EE12 ,  5H032EE16 ,  5H032EE18 ,  5H032HH04 ,  5H032HH08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 転写用導電性フィルム、それを用いた透明導電膜の形成方法及び透明導電膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-309527   出願人：TDK株式会社
• 透明導電層が付与された物体、及び転写用導電性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-192089   出願人：TDK株式会社
• 色素増感型太陽電池用導電性基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-245106   出願人：東レ株式会社