特許

J-GLOBAL ID：201003097355315746

イオン注入機に電子を閉じ込める技術

発明者： スマトラク、ドナ、エル. ,  アンヘル、ゴードン、シー. ,  ドレイ、ラジェッシュ
出願人/特許権者： バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 龍華国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-540410
公開番号（公開出願番号）：特表2010-512620
出願日： 2007年12月03日
公開日（公表日）： 2010年04月22日
要約：

【課題】 イオン注入機に電子を閉じ込める技術を開示する。【解決手段】 ある例示的実施形態においては、技術は、イオン注入機に電子を閉じ込める装置として実現される。装置は、ビームパスの少なくとも一部沿いに配置された第1磁石アレイおよび第2磁石アレイを備え、第1磁石アレイは前記ビームパスの第1側に配置され、第2磁石アレイは前記ビームパスの第2側に配置され、第1側は第2側に対向している。第1磁石アレイの少なくとも1つの磁石は、第2磁石アレイの対応する磁石の反対の極性に対向する極性を有する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

イオン注入機に電子を閉じ込める装置であって、 ビームパスの少なくとも一部沿いに配置された第1磁石アレイおよび第2磁石アレイを備え、 前記第1磁石アレイは前記ビームパスの第1側に配置され、前記第2磁石アレイは前記ビームパスの第2側に配置され、前記第1側は前記第2側に対向しており、 前記第1磁石アレイの少なくとも1つの磁石は、前記第2磁石アレイの対応する磁石の反対の極性に対向する極性を有する、装置。

IPC (2件)：

H01J 37/317 ,  H01L 21/265

FI (2件)：

H01J37/317 Z ,  H01L21/265 603B

Fターム (1件)：

5C034CC17

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 荷電粒子ビーム・システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-086914   出願人：インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-159949   出願人：住友イートンノバ株式会社
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-318435   出願人：日新イオン機器株式会社

審査官引用 (3件)

• 荷電粒子ビーム・システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-086914   出願人：インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-159949   出願人：住友イートンノバ株式会社
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-318435   出願人：日新イオン機器株式会社