特許
J-GLOBAL ID:201003097859898629

光学活性エテニルフェニルアルコールの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (20件): 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-504562
公開番号(公開出願番号):特表2010-525001
出願日: 2008年04月25日
公開日(公表日): 2010年07月22日
要約:
式(I):【化1】を有する光学活性エテニルフェニルアルコールまたはその鏡像体、 ここで、R1が非置換または置換へテロアリールであり、R2がフェニルまたは置換アリールである、を特定の白金族金属錯体触媒の存在下で水素ガスを適用する対応するケトンの不斉水素化により製造する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
式:
IPC (1件):
C07D 215/18
FI (1件):
C07D215/18
Fターム (11件):
4C031CA02 ,  4C031CA06 ,  4H006AA02 ,  4H006AC81 ,  4H006BA22 ,  4H006BA41 ,  4H006BA48 ,  4H006BA65 ,  4H006BA67 ,  4H039CA60 ,  4H039CB20

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