特許
J-GLOBAL ID:201003098584666109

リチウムイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法、リチウムイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製造方法及び硫化物ガラス製造用のメカニカルミリング処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大谷 保 ,  東平 正道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-157267
公開番号(公開出願番号):特開2010-030889
出願日: 2009年07月01日
公開日(公表日): 2010年02月12日
要約:
【課題】短時間で高いイオン伝導性を有するLiイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスを製造できるLiイオン伝導性硫化物ガラスの製法、前記Liイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製法、及びLiイオン伝導性硫化物ガラスの製法に好適な硫化物ガラス製造用のメカニカルミリング処理装置を提供する。【解決手段】LiとPとSとを含むLiイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法であって、原料を60°C〜160°Cでメカニカルミリング処理してガラス化させるLiイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法である。また、上記Liイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法により製造されたLiイオン伝導性硫化物ガラスを200°C以上360°C以下で加熱するLiイオン伝導性硫化物ガラスセラミックスの製造方法である。粉砕容器とボールと粉砕容器内の温度を60°C〜160°Cにする温度調整手段を備える硫化物ガラス製造用のメカニカルミリング処理装置である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
リチウムとリンと硫黄とを含むリチウムイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法であって、 原料を60°C以上、160°C以下でメカニカルミリング処理することによりガラス化させることを特徴とするリチウムイオン伝導性硫化物ガラスの製造方法。
IPC (7件):
C03B 8/00 ,  H01M 10/056 ,  H01B 13/00 ,  H01B 1/06 ,  C01B 17/22 ,  C03B 32/02 ,  C03C 10/02
FI (7件):
C03B8/00 C ,  H01M10/00 107 ,  H01B13/00 Z ,  H01B1/06 A ,  C01B17/22 ,  C03B32/02 ,  C03C10/02
Fターム (76件):
4G014AG00 ,  4G015EA02 ,  4G062AA11 ,  4G062BB09 ,  4G062DA01 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DD03 ,  4G062DD04 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA04 ,  4G062EA05 ,  4G062EA06 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GB04 ,  4G062GB05 ,  4G062GB06 ,  4G062GB07 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM23 ,  4G062NN25 ,  4G062QQ04 ,  5G301CA05 ,  5G301CA16 ,  5G301CA19 ,  5G301CD01 ,  5G301CE10 ,  5H029AJ06 ,  5H029AJ12 ,  5H029AJ14 ,  5H029AM12 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ08 ,  5H029HJ02 ,  5H029HJ14
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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