特許
J-GLOBAL ID：201003098745355192
熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-035250
公開番号（公開出願番号）：特開2010-192663
出願日： 2009年02月18日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：
【課題】複数のフラッシュランプから基板に照射する光の発光出力の出力波形を自由に調整することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】コンデンサ93aとコンデンサ93bとでは容量が異なり、コイル94aとコイル94bとではインダクタンスが異なる。また、電源ユニット95aと電源ユニット95bとでは印加電圧が異なる。このため、フラッシュランプFL(A)の発光出力の出力波形とフラッシュランプFL(B)の出力波形とでは異なる。フラッシュランプFL(A)とフラッシュランプFL(B)とを均一に分散配列するとともに、それらの発光タイミングを適宜ずらすことによって、異なる出力波形の発光を重ね合わせて、複数のフラッシュランプの全体から基板に照射する光の発光出力の出力波形を自由に調整することができる。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板に対して光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、
基板を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持された基板に光照射を行う複数のフラッシュランプと、
前記複数のフラッシュランプを複数のフラッシュランプ群に分割したときのそれぞれのフラッシュランプ群の発光出力の出力波形を規定する出力波形規定手段と、
前記複数のフラッシュランプ群のそれぞれの発光タイミングを制御する発光制御手段と、
を備え、
前記出力波形規定手段によって規定される前記複数のフラッシュランプ群の出力波形が相互に異なることを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/26 T
, H01L21/26 J
, H01L21/31 E
5F045AA20
, 5F045BB08
, 5F045DP02
, 5F045DQ10
, 5F045EC01
, 5F045EK12
, 5F045EK29
, 5F045EM02
, 5F045GB15
