特許

J-GLOBAL ID：201003098834087690

インプリント装置及び物品の製造方法

発明者： 川上 英悟 ,  春見 和之 ,  稲 秀樹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 藤元 亮輔 ,  水本 敦也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-125750
公開番号（公開出願番号）：特開2010-269580
出願日： 2009年05月25日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：

【課題】離型に有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】 本発明のインプリント装置は、パターンが形成されたモールド10をレジストMpが塗布されたウエハ100に押し付け、モールド10をウエハ100から離型することによってパターンをウエハ100に転写する押印装置であって、ウエハ100をその端部において吸着保持するウエハチャック21と、ウエハチャック21とは分離して形成され、ウエハ100を吸着保持するウエハチャック22と、ウエハチャック21及びウエハチャック22をモールド10に対して相対的に移動させる駆動部とを有し、ウエハチャック22は、ウエハチャック21より可撓性の高い材質で形成されている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

型による基板上の樹脂の成形と、前記基板からの離型とを行って、前記樹脂のパターンを前記基板上に形成するインプリント装置であって、 前記基板の裏面をその端部において保持する第1保持部と、 前記基板の裏面を前記端部とは異なる部分において保持する第2保持部と、 前記第1保持部及び前記第2保持部を互いに相対的に移動させる駆動部と、 を有し、 前記第2保持部の可撓性は、前記第1保持部の可撓性より高い、 ことを特徴とすることを特徴とするインプリント装置。

IPC (3件)：

B29C 59/02 ,  B29C 33/44 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

B29C59/02 B ,  B29C33/44 ,  H01L21/30 502D

Fターム (21件)：

4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CC01 ,  4F202CL02 ,  4F202CM14 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ14 ,  5F046AA28