特許
J-GLOBAL ID:201003099628984746
光干渉断層解析
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
平木 祐輔
, 石井 貞次
, 藤田 節
, 新井 栄一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-520299
公開番号(公開出願番号):特表2010-536039
出願日: 2008年08月07日
公開日(公表日): 2010年11月25日
要約:
医薬送達システムを製造する製造手段を含む、該医薬送達システムを分析する光干渉断層解析システムであって、該製造手段が少なくとも1つの製造プロセスを含み、光干渉断層システムが該医薬送達システムに放射線ビームを向けるように構成した光源を有し、それによって、該放射線ビームが該医薬送達システムと相互作用し、該相互作用が該医薬送達システムにより放出される光の放出を含み、該干渉計が該医薬送達システムから放出された光を受け、該医薬送達システムの製造中に該放出光から該医薬送達システムの光学像をリアルタイムに構築するように構成される、前記システム。【選択図】図1
請求項(抜粋):
以下の工程を含む、医薬送達システムの光学イメージング方法:
所定の波長及びバンド幅を有する放射線ビームを提供するように構成した光源を有する光干渉イメージング装置を提供する工程;
少なくとも1つの走査角度で該放射線ビームを発する工程であって、該放射線ビームが第一の経路及び第二の経路内に導かれ、該第一の放射線ビーム経路が第一の経路長を有し、該第二の放射線ビーム経路が第二の経路長を有し、該第一の放射線ビーム経路が該医薬送達システムに向けられ、それによって、該放射線ビームが該医薬送達システムと相互作用し、該相互作用が該医薬送達システムにより放出される光の放出を含み、該第二の放射線ビーム経路が参照鏡に向けられている、前記工程;
該第一の経路長を変化させる工程;及び
該医薬送達システムの光学像を該放出光から構築する工程。
IPC (3件):
G01B 11/06
, G01B 9/02
, G01N 21/17
FI (3件):
G01B11/06 G
, G01B9/02
, G01N21/17 630
Fターム (41件):
2F064AA01
, 2F064AA09
, 2F064EE01
, 2F064FF02
, 2F064FF03
, 2F064FF07
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG38
, 2F064GG52
, 2F064JJ01
, 2F064JJ15
, 2F065FF51
, 2F065GG07
, 2F065GG21
, 2F065HH04
, 2F065JJ26
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
, 2G059AA05
, 2G059BB09
, 2G059BB15
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE17
, 2G059FF02
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059GG08
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ02
, 2G059JJ07
, 2G059JJ18
, 2G059JJ19
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
, 2G059LL01
, 2G059MM01
引用特許:
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