特許
J-GLOBAL ID:201003099677651566
アルキルエーテルグラフト鎖からなる高分子電解質膜、及び、その製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (6件):
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 松山 美奈子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-022352
公開番号(公開出願番号):特開2010-182436
出願日: 2009年02月03日
公開日(公表日): 2010年08月19日
要約:
【課題】従来の高分子電解質膜、特に、高分子基材にスチレンモノマーを放射線グラフト重合した電解質膜よりも優れたプロトン伝導性、含水率、燃料不透過性、熱水耐性を示す燃料電池用電解質膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】フッ素系高分子、オレフィン系高分子又は芳香族系高分子からなる高分子基材に、アシルビニルエーテル誘導体、スチレン誘導体、メタクリル酸誘導体から選択される求核性官能基を有するビニルモノマーを放射線グラフト重合する工程と、放射線グラフト重合により導入された当該高分子基材上のグラフト鎖のエステル結合を脱保護する工程と、脱保護されたグラフト鎖の求核性官能基に、環状スルホン酸エステル及びハロゲン化アルキルスルホン酸塩から選択される求電子試薬を用いてアルキルエーテルスルホン酸構造を導入する工程と、を含む、燃料電池用電解質膜の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
フッ素系高分子、オレフィン系高分子又は芳香族系高分子からなる高分子基材に、アシルビニルエーテル誘導体、スチレン誘導体、メタクリル酸誘導体から選択される求核性官能基を有するビニルモノマーを放射線グラフト重合する工程と、
放射線グラフト重合により導入された当該高分子基材上のグラフト鎖のエステル結合を脱保護する工程と、
脱保護されたグラフト鎖の求核性官能基に、環状スルホン酸エステル及びハロゲン化アルキルスルホン酸塩から選択される求電子試薬を用いてアルキルエーテルスルホン酸構造を導入する工程と、
を含む、燃料電池用電解質膜の製造方法。
IPC (5件):
H01M 8/02
, H01M 8/10
, H01B 13/00
, H01B 1/06
, C08J 7/18
FI (5件):
H01M8/02 P
, H01M8/10
, H01B13/00 Z
, H01B1/06 A
, C08J7/18
Fターム (23件):
4F073AA04
, 4F073AA11
, 4F073BA06
, 4F073BA12
, 4F073BA27
, 4F073BB01
, 4F073EA21
, 4F073EA37
, 4F073EA42
, 4F073EA55
, 4F073EA62
, 4F073FA01
, 4F073FA03
, 4F073FA05
, 5G301CD01
, 5G301CE01
, 5H026AA06
, 5H026BB00
, 5H026BB10
, 5H026CX04
, 5H026EE18
, 5H026HH05
, 5H026HH08
引用特許:
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