特許
J-GLOBAL ID：201003099926332522
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-104734
公開番号（公開出願番号）：特開2010-258125
出願日： 2009年04月23日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】大気中でも良好に基板を洗浄できる基板処理装置を提供する。【解決手段】遮断板40は、搬送路30aの上方に配置されており、各搬送ローラ30により搬送される基板Wの上面と近接する。また、遮断板40には、リンス液供給ノズル60の設置スペースとして使用される複数の中空突出部42が設けられている。複数のリンス液供給ノズル60は、中空突出部42の延伸方向に沿うように、中空突出部42の中空空間42aに固定されており、搬送される基板Wに対して近接できる。シールドガス供給ノズル50、55は、第1処理空間71にシールドガスを供給し、第1処理空間71内の空気をシールドガスと置換する。これにより、第1処理空間71において、基板Wと、大気に含まれる酸素と、リンス液の水分と、が接触することを防止できる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板処理装置であって、
(a) 搬送路に沿った搬送方向に、基板を搬送する搬送部と、
(b) 前記搬送路の上方に配置されており、前記搬送部により搬送される基板の上面と近接する第1遮断板と、
(c) 少なくとも、前記搬送部により搬送される基板と前記第1遮断板とで囲まれる第1処理空間に、シールドガスを供給するシールドガス供給部と、
(d) 基板の上面に第1リンス液を供給する第1リンス液供給部と、
を備え、
前記シールドガスの雰囲気とされた前記第1処理空間に、前記第1リンス液を供給することによって、前記搬送部により搬送される基板を洗浄することを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (3件)：
H01L21/304 643B
, H01L21/304 648G
, H01L21/304 651L
5F157AA28
, 5F157AA79
, 5F157AB02
, 5F157AB35
, 5F157AB82
, 5F157AC54
, 5F157BB23
, 5F157CB03
, 5F157CB16
, 5F157CE03
, 5F157CE76
, 5F157CF22
, 5F157CF30
, 5F157CF76
, 5F157DB22
, 5F157DB32
, 5F157DB37
, 5F157DB41
, 5F157DC00
