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J-GLOBAL ID：201102141400599850   整理番号：10A1686034

パルスKrFエキシマレーザで照射したシリコンの二次有限要素熱解析

The quadratic finite element thermal analysis of silicon irradiated by a pulsed KrF excimer laser

著者 (3件)： NAKAMIYA T ,  IKEGAMI T ,  EBIHARA K
資料名： COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE
巻： 17  号： 2-4  ページ： 409-413  発行年： 2000年 
JST資料番号： O1558A  ISSN： 0927-0256  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルス ,  KrFエキシマレーザ ,  シリコン ,  有限要素 ,  熱解析