文献

J-GLOBAL ID：201102147948097398   整理番号：11A0084060

パルスレーザー蒸着による、NiO(111)薄膜の室温エピタキシャル成長

Room-temperature epitaxial growth of NiO(111) thin films by pulsed laser deposition

著者 (4件)： KAKEHI Y ,  NAKAO S ,  SATOH K ,  KUSAKA T
資料名： JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
巻： 237  ページ： 591-595  発行年： 2002年 
JST資料番号： O3553A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスレーザー蒸着 ,  薄膜 ,  室温 ,  エピタキシャル成長