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J-GLOBAL ID：201102180968103413   整理番号：11A0062082

紫外エキシマランプを用いたCVDによるGeO2とSiO2薄膜作製

GeO2 and SiO2 thin film preparation with CVD using ultraviolet excimer lamps

著者 (5件)： KUROSAWA K ,  MAEZONO Y ,  MIYANO Ji ,  MOTOYAMA T ,  YOKOTANI A
資料名： JOURNAL DE PHYSIQUE IV
巻： 11  号： PR3  ページ： 739-745  発行年： 2001年 
JST資料番号： O3313A  ISSN： 1155-4339  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (4件)： エキシマランプ ,  CVD ,  SiO2 ,  薄膜作製