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J-GLOBAL ID：201102181009760967   整理番号：11A0094168

電子照射中のサイズ変動を利用した四面体積層欠陥の成長と収縮のメカニズム研究

A study of the mechanism of the growth and shrinkage of stacking fault tetrahedra using the fluctuation of their size under electron irradiation

著者 (5件)： ARAKAWA K ,  ARAI S ,  ORIHARA H ,  ONO K ,  KIRITANI M
資料名： JOURNAL OF ELECTRON MICROSCOPY
巻： 51  ページ： S225-S229  発行年： 2002年 
JST資料番号： O3600A  ISSN： 0022-0744  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： 電子照射 ,  サイズ ,  四面体 ,  積層欠陥 ,  成長 ,  収縮 ,  メカニズム ,  研究