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J-GLOBAL ID:201102200616061681   整理番号:11A0558470

レーザを用いた4,7-ジメチルベンゾフラザンの光化学反応

PHOTOCHEMICAL REACTION OF 4,7-DIMETHYLBENZOFURAZAN USING LASER
著者 (7件):
資料名:
巻: 83  号:ページ: 619-625  発行年: 2011年03月01日 
JST資料番号: S0966A  ISSN: 0385-5414  CODEN: HTCYAM  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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4,7-ジメチルベンゾフラザン1はXeランプ(パイレックスフィルター)を用いた短い期間の照射について,その他のジメチルベンゾフラザン,メチルベンゾフラザンやベンゾフラザンよりも活性であった。化合物1は室温,CDCl3中のQuanta-Ray Nd:YAGレーザ(355nm)の第3高調波照射によって,(2Z,4Z)-2,5-ジメチルヘキサ-2,4-ジエンジニトリルモノオキシド2に高収率で変換する。温度が高くなると,異性体の開形式化合物2は最初のベンゾフラザン構造に熱的に戻ると思われる。293KでのCHCl3を用いた2の1へのこの再環化反応の速度速度は1.16x10-5s-1であった。CDCl3中の1の照射は光生成物の化合物2を0.48の量子収率と99%の化学収率で生成する。この光反応の収率はレーザの出力と曝露時間に依存していた。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
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光化学反応  ,  光化学反応,ラジカル反応  ,  複素環化合物一般 
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