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J-GLOBAL ID:201102200659775173   整理番号:11A0135858

いろいろな空気安定性をもつN-チャネルペリレンジイミドトランジスタに対する輸送性質と電荷トラップ比較

Transport Property and Charge Trap Comparison for N-Channel Perylene Diimide Transistors with Different Air-Stability
著者 (9件):
資料名:
巻: 114  号: 48  ページ: 20387-20393  発行年: 2010年12月09日 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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同じような形態的およびミクロ構造特性をもつ二つのペリレンジイミド化合物に基づくボトムゲートボトムコンタクトトランジスタ(対応するFETは非常に異なる空気安定性を示す)を調べた。二つのn-型半導体,N,N′-ビス(n-オクチル)-ペリレン-3,4:9,10-ボス(ジカルボキシイミド)(PDI-8,空気に敏感)とN,N′-ビス(n-オクチル)-1,6-ジシアノペリレン-3,4:9.10-ビス(ジカルボキシイミド)(PDI-8CN2あるいはPolyera ActivInk N1200,空気に敏感ではない)を用いた。両方の化合物は,トランジスタ作製のためのSi(ゲート)/裸のSiO2(誘電性)/Au(コンタクト)基板上に蒸気析出させた。真空中で空気に不安定なPDI-8トランジスタに対する飽和様式で抽出した電界効果移動度はPDI-8CN2 FETより約3×大きい。他方SiO2表面トラップへのその敏感性の結果としてDPI-8デバイスはバイアスストレス効果(BSE)によりもっと影響を受け,暗状態と照射下の両方で180K以上の温度領域で特異な挙動を示す。
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トランジスタ 
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