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J-GLOBAL ID：201102202099193915   整理番号：11A0436766

高品質a-Si蒸着のためのクラスタ抑制プラズマCVD:Hフィルム

Cluster-suppressed plasma CVD for deposition of high quality a-Si : H films

著者 (3件)： SHIRATANI M ,  KOGA K ,  WATANABE Y
資料名： THIN SOLID FILMS
巻： 427  号： 1-2  ページ： 1-5  発行年： 2003年 
JST資料番号： O6387A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高品質 ,  Si ,  蒸着 ,  クラスタ ,  プラズマCVD ,  フィルム