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J-GLOBAL ID：201102205157233638   整理番号：11A0174630

等温DNA増幅での中間生成物発生に対する後戻りプライマーの影響

Effects of the turn-back primer on intermediate product generation in isothermal DNA amplification

著者 (10件)： TANAKA Yuki (RIKEN, Yokohama, JPN) ,  KIMURA Yasumasa (RIKEN, Yokohama, JPN) ,  MITANI Yasumasa (K.K. Dnaform, Yokohama, JPN) ,  KAWAI Yuki (K.K. Dnaform, Yokohama, JPN) ,  LEZHAVA Alexander (RIKEN, Yokohama, JPN) ,  NOMA Shohei (RIKEN, Yokohama, JPN) ,  TAGAMI Michihira (RIKEN, Yokohama, JPN) ,  KAWAI Jun (RIKEN, Yokohama, JPN) ,  HAYASHIZAKI Yoshihide (RIKEN, Yokohama, JPN) ,  USUI Kengo (RIKEN, Yokohama, JPN)
資料名： BioTechniques  (BioTechniques)
巻： 49  号： 6  ページ： 888-892  発行年： 2010年12月 
JST資料番号： C0930C  ISSN： 0736-6205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 後戻りプライマー依存性増幅(TIA)法にて中間生成物創製段階(鋳型DNAからの標的配列コピーの初期段階)のタイミングを測定するための方法を開発した。また,アンプリコン末端で異なる後戻りループサイズを有する2タイプの後戻りプライマー(TP)対をデザイン化し,サイズの差が中間生成物発生にどのように影響するかを調べた。TIA法の試験にdsDNA増幅曲線を外挿することにより中間生成物発生の実際の時点を測定し,この発生が律速段階であることを見出した。また,TPの良いデザインが中間体産生プロセスの改善に有利であり,5′-後戻り配列のTPデザインから後戻りループサイズの差が中間生成物創製の効率に影響することを証明した。なお,TIA法での中間生成物の創製プロセスの略図を示し,最終的に放出された2サイズの後戻りループを有するダンベル型dsDNA中間生成物の創製プロセスを詳述した。更に,等温DNA増幅標的としてヒトゲノム遺伝子座sY153(Y染色体上の配列標識部位)を選択して測定した結果を提示した。

シソーラス用語： *PCR法 ,  *反応中間体 ,  *プライマー【遺伝】 ,  鋳型【遺伝】 ,  DNA【核酸】 ,  ヌクレオチド配列 ,  遺伝子 ,  分子設計 ,  外挿法 ,  ヒト ,  ゲノム ,  *遺伝子座 ,  Y染色体 ,  律速
準シソーラス用語： 454シークエンサ ,  *sY153遺伝子座 ,  アンプリコン ,  *後戻りプライマー ,  後戻りプライマー依存性増幅法 ,  中間生成物 ,  等温DNA増幅 ,  分子デザイン ,  律速段階

分類 (1件)： 遺伝子の構造と化学  (EC02020U)

タイトルに関連する用語 (4件)： DNA増幅 ,  中間生成物 ,  後戻り ,  プライマー