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J-GLOBAL ID：201102205266171880   整理番号：11A1007524

相互拡散CVD法を用いて調製したシリカハイブリッド膜を通しての高温ガス分離

High Temperature Gas Separation through Silica Hybrid Membranes Prepared by using a Counter Diffusion CVD Method

著者 (6件)： NOMURA Mikihiro (Shibaura Inst. of Technol., JPN) ,  MONMA Keita (Shibaura Inst. of Technol., JPN) ,  MATSUYAMA Emi (Shibaura Inst. of Technol., JPN) ,  KIMURA Sayuka (Shibaura Inst. of Technol., JPN) ,  MIYAKE Ryo (Shibaura Inst. of Technol., JPN) ,  UTSUMI Keisuke (Shibaura Inst. of Technol., JPN)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集  (Abstracts. Fall Meeting of the Ceramic Society of Japan)
巻： 23rd (CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.S12-043  発行年： 2010年11月14日 
JST資料番号： L2240A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化ケイ素 ,  *セラミック膜 ,  ガス分離 ,  多孔質体 ,  相互拡散 ,  *化学蒸着

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： 相互拡散 ,  CVD法 ,  調製 ,  シリカ ,  ハイブリッド膜 ,  高温ガス