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J-GLOBAL ID:201102205302531413   整理番号:11A0902235

規則配置溝列により撹乱を受けた円管内乱流

著者 (3件):
資料名:
巻: 49th  ページ: 365-366  発行年: 2011年02月23日 
JST資料番号: L0015A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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規則配置溝列により撹乱を受けた円管内乱流の応答と回復過程について調査した。溝列は管壁面の短区間に環状の粗さ要素を等間隔に規則配置して形成(溝列の設置範囲は管半径の約8倍で,パルス的撹乱に相当)し,管抵抗を増加させた。供試円管は直径80mm,溝の深さは3mmで粗さ要素と溝の配置間隔による影響を調査した。溝列の配置ピッチ比が2,3及び4の3条件について,管径レイノルズ数60000の一定で実験を行い,ピッチ比の増加に伴い変化挙動が大きくなること等を明らかにした。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件):
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管内流 
タイトルに関連する用語 (4件):
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