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J-GLOBAL ID：201102205462184450   整理番号：11A1249912

22nmノード以細用のネガ型現像(NTD)の基礎研究

Fundamental Investigation of Negative Tone Development (NTD) for the 22nm node (and beyond)

著者 (17件)： LANDIE Guillaume (STMicroelectronics, NY) ,  XU Yongan (IBM Corp., NY, USA) ,  BURNS Sean (IBM Corp., NY, USA) ,  YOSHIMOTO Kenji (IBM, NY, USA) ,  BURKHARDT Martin (IBM Corp., NY, USA) ,  ZHUANG Larry (IBM Corp., NY, USA) ,  PETRILLO Karen (IBM Corp., NY, USA) ,  MEIRING Jason (IBM Corp., NY, USA) ,  GOLDFARB Dario (IBM, NY, USA) ,  GLODDE Martin (IBM, NY, USA) ,  SCADUTO Anthony (IBM Corp., NY, USA) ,  COLBURN Matthew. (IBM Corp., NY, USA) ,  DESISTO Jason (Dow Chemical Co., MA) ,  BAE Young (Dow Chemical Co., MA) ,  REILLY Michael (Dow Chemical Co., MA) ,  ANDES Cecily (Dow Chemical Co., MA) ,  VOHRA Vaishali (Dow Chemical Co., MA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7972  号： Pt.1  ページ： 797206.1-797206.12  発行年： 2011年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 193nm液浸リソグラフィーの分解能限界を広げるために,ネガ型現像(NTD)が期待されている。有機現像液中のレジスト/基板接着は重要な関心事である。本研究では,基礎的材料/工程相互作用の観点からNTDを調べた。NTD工程と慣用のポジ型現像の間には幾つかの重要な違いがある。ポジ型とネガ型の溶媒現像液により,水晶結晶微量天秤を用いてモデル系の動的溶解挙動を特性化した。また,現行のNTDレジスト/現像液系の光近接効果補正(OPC)モデリングの初めての結果を示した。

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  現像液 ,  *現像 ,  フォトレジスト ,  回路パターン形成 ,  補正 ,  モデリング ,  コンタクトホール ,  フォトリソグラフィー ,  多重露光
準シソーラス用語： *ネガ型現像 ,  液浸リソグラフィー ,  光近接効果補正

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： ノード ,  ネガ ,  現像 ,  基礎 ,  研究