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J-GLOBAL ID:201102205898693393   整理番号:11A0494456

常温接合を用いた積層造形法におけるオーバーレイ誤差の要因解析

著者 (2件):
資料名:
巻: 77  号:ページ: 218-223  発行年: 2011年02月05日 
JST資料番号: F0268C  ISSN: 0912-0289  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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本研究ではこれまでにナノメートル台の加工精度と3次元形状自由度を両立する微細加工技術として,FORMULA技術を開発してきた。本方式は薄膜パターン部材を常温接合法により積み重ねる積層造形法の一種である。本報では,FORMULA技術に最小二乗円法を適用しオーバーレイ誤差を詳細に解析するとともに,誤差要因を明らかにし加工精度の改善指針を示した。これからFORMULA技術を用いて薄膜の積層構造体を加工し,このオーバーレイ誤差をランダム誤差と系統誤差に分類し,その結果と装置の構成要素や特性を対比させ,さらにオーバーレイ誤差のシミュレーションを組合せて誤差要因を明らかにした。これにより得た主な知見を次に示した。1)セル内ランダム誤差は標準偏差で34nmであり,その主要因はドナー基板上に形成した構造体の断面部材のパターニング誤差32.6nmと,計測誤差9.5nmであること,2)セル間ランダム誤差は標準偏差で97.8nmであり,その主要因はターボ分子ポンプ(TMP)の振動に起因するXYステージの位置決め誤差73.6nmとZ軸のXY面内ブレ46nmであること,3)セル間系統誤差は32nm/mmであり,その原因はアライメントマーク位置座標読取時のランダム誤差のアライメント係数への伝搬およびFAB照射による機構部品の熱変位であることなど。
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  その他の成形 
引用文献 (11件):
  • 1) T. Oba et. al. : Development of CAPP/CAM System for 5-axis Control Machining, J. Jpn. Soc. Precis. Eng., 76, 1, (2010) 90 (in Japanese).
  • 2) M. Kunieda et. al. : Study on 5-Axis Dry EDM, J. Jpn. Soc. Precis. Eng., 73, 8, (2007) 940 (in Japanese).
  • 3) S. Matsui. : Three-Dimensional Nanotechnology Using Focused-Ion-Beam and Its Applications, J. Surf. Finish. Soc. Jpn., 56, 7, (2005) 361 (in Japanese).
  • 4) S. Matsui. : Nanoimprint Technology, J. Surf. Sci. Soc. Jpn., 25, 10, (2004) 628 (in Japanese).
  • 5) T. Yamada and M. Takahashi : Proposal and Verification of a Novel Fabrication Method for 3-D Microstructures, J. Jpn. Soc. Precis. Eng., 66, 8, (2000) 1265 (in Japanese).
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