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J-GLOBAL ID：201102205972545784   整理番号：11A0554113

ホログラフィックスペックルシフト多重化用のランダム位相シフタの作製と性質

Fabrication and properties of random phase-shifter for holographic speckle-shift multiplexing

著者 (4件)： ZHAI Qianli (Beijing Univ. Technol., Beijing, CHN) ,  TAO Shiquan (Beijing Univ. Technol., Beijing, CHN) ,  SONG Wei (Beijing Univ. Technol., Beijing, CHN) ,  WAN Yuhong (Beijing Univ. Technol., Beijing, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7851  ページ： 78510F.1-78510F.6  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 感光性高分子中のスペックルシフト多重化に用いる特定のランダム位相シフタを作製するための単純な方法を示した。空間スペックル場を感光性高分子膜中に記録し,ランダム位相シフタを形成する。他のディフューザと比べて作製が容易で,高密度記録条件に従って平均スペックルサイズを制御できる。目的のスペックルサイズを理論から導き,記録したホログラムのシフト選択性を実験により測定して計算公式を立証した。最後に,今後解決すべき問題を論じた。

シソーラス用語： *スペックル ,  *移相器 ,  多重化 ,  感光性高分子 ,  高分子膜 ,  記録 ,  *ホログラム記録 ,  ホログラムメモリ
準シソーラス用語： *位相シフタ ,  高密度記録

分類 (1件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 多重化 ,  位相シフタ ,  作製 ,  性質