文献
J-GLOBAL ID:201102206198033780   整理番号:11A1374026

半導体製品製造環境におけるイオン化合物の高感度な固相能動サンプラーを用いえる短時間での評価

BRIEF EVALUATION OF IONIC COMPOUNDS IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING ENVIRONMENT USIONG HIGHLY SENSITIVE SOLID PHASE ACTIVE SAMPLAR
著者 (7件):
資料名:
ページ: 414-418  発行年: 2010年 
JST資料番号: M20110004  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
空気浄化  ,  分析機器 

前のページに戻る