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J-GLOBAL ID:201102207342373252   整理番号:11A1279295

テトラキス(2,6-キシリル)レゾルシノールビスホスフェートの合成

Synthesis of Tetrakis-(2,6-Xylyl) Resorcinol Bisphosphate
著者 (6件):
資料名:
巻: 39  号:ページ: 542-547  発行年: 2010年 
JST資料番号: W1472A  ISSN: 1000-8144  CODEN: SHHUE8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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難燃化剤テトラキス-(2,6-キシリル)レゾルシノールビスホスフェート(DMP-RDP)を,オキシ塩化りん,2,6-ジメチルフェノールおよびレゾルシノールから2段反応で合成した。溶媒の種類,触媒の種類ならびに用量,原料比率および第一段反応の温度ならびに時間がDMP-RDPの収率に及ぼす影響を研究した。以下の通りの適切な合成条件を得た:溶媒としてのキシレンの(全質量に基づく)質量分率は50%,触媒としての塩化マグネシウムの(オキシ塩化りんに基づく)質量分率は2.0%,2,6-ジメチルフェノール,オキシ塩化りんとレゾルシノールのモル比は4.10:2.08:1.00,第一段反応の温度は120°Cを6時間に続いて140~145°Cを2時間,および第2段反応の温度は140~145°Cを6時間。上記条件下でのDMP-RDPの純度および収率はそれぞれ99.56%および92.25%に達することができた。製品の構造をFTIR,1H NMRおよびTG-DSCによりキャラクタライズした。品質指標は海外からの製品の水準に達することができた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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分類 (1件):
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難燃剤 
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