文献
J-GLOBAL ID:201102209444191771   整理番号:11A0137193

Cu-In-Te系薄膜と太陽電池の特性におけるテルル蒸着速度の効果

Effect of tellurium deposition rate on the properties of Cu-In-Te based thin films and solar cells
著者 (2件):
資料名:
巻: 314  号:ページ: 76-80  発行年: 2011年01月01日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
Cu-In-Te系薄膜(Cu/In=0.30~0.31)の特性におけるテルリウム(Te)蒸着速度の効果を調べるために,分子線エピタキシー系を用いた同時蒸発によって200°CでそのままのとMo被覆のソーダ石灰ガラス基板の両方の上にこの膜が成長された。走査電子顕微鏡法とX線回折の手段によって微構造の性質が調べられた。Teの蒸着速度の増加と供にこの膜の結晶的な品質が改善して,高優先(112)配向を持つ単CuIn3Te5相を示した。低Te蒸着速度で成長したTe欠乏膜(Te/(Cu+In)=1.07)は室温で0.99eVの細い禁止帯幅を示した。太陽電池の性能はTeの蒸着速度によって影響を受けた。最速のTeの蒸着速度(2.6nm/s)で成長したCuIn3Te5薄膜を用いて組み立てた最も良い太陽電池は浸漬光無しで4.4%(VOC=309mV,JSC=28.0mA/cm2,そしてFF=0.509)の全面積(0.50cm2)効率をもたらした。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
太陽電池  ,  半導体薄膜 

前のページに戻る