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J-GLOBAL ID:201102210008180657   整理番号:11A0096526

太陽電池製造と洗浄技術 結晶シリコン太陽電池製造のテクスチャーリング工程における洗浄技術

著者 (1件):
資料名:
号:ページ: 25-27  発行年: 2010年09月30日 
JST資料番号: L7969A  ISSN: 2188-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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結晶シリコン太陽電池製造プロセスにおけるテクスチャーリング(Tex.)工程における洗浄技術は,エネルギー損失を低減し,高効率の太陽電池の量産に寄与しており,下記事項などについて解説した。1)結晶シリコン太陽電池の入射エネルギーの損失過程,2)結晶シリコン太陽電池の製造工程におけるTex.工程と洗浄技術,3)単結晶テクスチャーの光学顕微鏡観察,4)単結晶シリコンウェーハの異方性エッチングを用いたTex.工程で発生する表面状態の不均一性によるトラブル発生メカニズム,5)良好な単結晶テクスチャーを得ることに対する阻害要因の解析とそれを除くための洗浄方法。
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シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (2件):
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太陽電池  ,  固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (7件):
  • 濱川圭弘編: 太陽電池, コロナ社 (2004)
  • 松谷壽信: シャープ技報, 70, 37(1998)
  • A. Goetzberger, J. Knobloch, B. Voss: Crystalline Silicon Solar Cells, Wiley (1998)
  • U. Gangopadhya, S. K. Dutta, H. Sara: Texturization and Light Trapping in Silicon Solar Cells, Nova Science Pub Inc (2009)
  • 西本陽一郎: 表面技術, 56, 13(1995)
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タイトルに関連する用語 (4件):
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