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J-GLOBAL ID：201102212837559631   整理番号：11A0288858

光化学系IIの品質管理 FtsHヘキサマーは損傷の即時修復のためグラナにおいて光化学系IIの近くに局在する

Quality Control of Photosystem II FtsH HEXAMERS ARE LOCALIZED NEAR PHOTOSYSTEM II AT GRANA FOR THE SWIFT REPAIR OF DAMAGE

著者 (7件)： YOSHIOKA Miho (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  NAKAYAMA Yosuke (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  YOSHIDA Mari (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  OHASHI Kensuke (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  MORITA Noriko (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  KOBAYASHI Hideki (Okayama Univ., Okayama, JPN) ,  YAMAMOTO Yasusi (Okayama Univ., Okayama, JPN)
資料名： Journal of Biological Chemistry  (Journal of Biological Chemistry)
巻： 285  号： 53  ページ： 41972-41981  発行年： 2010年12月31日 
JST資料番号： E0038A  ISSN： 0021-9258  CODEN： JBCHA3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホウレンソウチラコイドから調製した各種膜画分における膜メタロプロテアーゼFtsHの分布およびサブユニット構造を解析した。チラコイドにおいてはFtsHは単量体,二量体,六量体構造で存在するが,Triton X100可溶化膜においては六量体のみが検出された。これと一致して光ストレス条件下光化学系II膜においてD1蛋白質の分解が起こり,この分解がZn²⁺により促進されることから,FtsHの関与が示唆された。40°Cの中度熱ストレス条件下,チラコイドの殆どのFtsHの単量体および二量体は消失したが,六量体レベルは一定であり,光照射条件下でも六量体は長期に安定で,光/熱損傷誘導酸化ストレス防御におけるチラコイド膜環境適応における役割を示唆した。

シソーラス用語： ホウレンソウ ,  チラコイド ,  *光化学系II ,  *メタロプロテイナーゼ ,  光毒性 ,  暑熱ストレス ,  酸化ストレス ,  生体防御
準シソーラス用語： *FtsH ,  光ストレス

分類 (1件)： 光合成  (EB10020I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光化学系II ,  品質管理 ,  FtsH ,  ヘキサマー ,  損傷 ,  修復 ,  グラナ