文献

J-GLOBAL ID：201102213222153208   整理番号：11A0452681

高品質ZnO膜のヘテロエピタキシャル成長に対するRFスパッタリング調製したZnOバッファ層の効果

Effect of ZnO buffer layer prepared by rf sputtering on heteroepitaxial growth of high-quality ZnO films

著者 (6件)： SATO D ,  KASHIWABA Y ,  HAGA K ,  WATANABE H ,  ZHANG Bp ,  SEGAWA Y
資料名： VACUUM
巻： 74  号： 3-4  ページ： 601-605  発行年： 2004年 
JST資料番号： O6546A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高品質 ,  ZnO ,  成長 ,  RFスパッタリング ,  調製 ,  バッファ層