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J-GLOBAL ID：201102215736681451   整理番号：11A1179461

低温溶液プロセス金属酸化物TFT材料の開発

Development of Low Temperature Solution-processed Metal Oxide TFT Materials.

著者 (6件)： STEIGER Juergen (Evonik Degussa GmbH, Marl, DEU) ,  THIEM Heiko (Evonik Degussa GmbH, Marl, DEU) ,  HOPPE Arne (Evonik Degussa GmbH, Marl, DEU) ,  PHAM Duy-Vu (Evonik Degussa GmbH, Marl, DEU) ,  MERKULOV Alexey (Evonik Degussa GmbH, Marl, DEU) ,  ANSELMANN Ralf (Evonik Degussa GmbH, Marl, DEU)
資料名： Proceedings of the International Display Workshops  (Proceedings of the International Display Workshops)
巻： 17th  号： Vol.3  ページ： 1913-1914  発行年： 2010年 
JST資料番号： L4269A  ISSN： 1883-2490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *薄膜トランジスタ ,  低温 ,  半導体プロセス ,  *溶液 ,  金属酸化物 ,  移動度
準シソーラス用語： TFT【トランジスタ】 ,  *低温プロセス

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体と絶縁体の電気伝導一般  (BM03041P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低温 ,  溶液 ,  プロセス ,  金属酸化物 ,  TFT ,  開発