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J-GLOBAL ID：201102217515493327   整理番号：11A1274484

OHラジカルのLIF分光研究

LIF Spectroscopic Study of O.H Radical

著者 (5件)： Li Jiong (State Key Lab. of Precision Spectroscopy, Dep. of Physics, East China Normal Univ., Shanghai) ,  Deng Lunhua (State Key Lab. of Precision Spectroscopy, Dep. of Physics, East China Normal Univ., Shanghai) ,  Mou Zongshuai (State Key Lab. of Precision Spectroscopy, Dep. of Physics, East China Normal Univ., Shanghai) ,  Chen Yangqin (State Key Lab. of Precision Spectroscopy, Dep. of Physics, East China Normal Univ., Shanghai) ,  Yang Xiaohua (State Key Lab. of Precision Spectroscopy, Dep. of Physics, East China Normal Univ., Shanghai)
資料名： Guangpuxue yu Guangpu Fenxi  (Guangpuxue yu Guangpu Fenxi)
巻： 30  号： 7  ページ： 1738-1742  発行年： 2010年 
JST資料番号： C2093A  ISSN： 1000-0593  CODEN： GYGFED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： DCパルス高電圧放電により,ヒドロキシルラジカル分子ビームを発生させた。OHのA2Σ+-X2Π(1,0)バンドの回転分解励起の蛍光スペクトルを観測した。ナノ秒色素レーザ(約282nm)の第二高調波出力を用いた。OHスペクトルの強度分布の解析に基づいて,(1,0)バンドの回転温度が(30±1)Kと確定された。次に,(1,1)バンドと(0,0)バンドの蛍光減衰曲線を得た。A2Σ+(v′=1)状態とX2Π(v”=0)状態の蛍光寿命は(637±16)と(675±13)nsであった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *ヒドロキシルラジカル ,  蛍光スペクトル ,  *分子ビーム ,  色素レーザ ,  回転温度 ,  蛍光減衰 ,  蛍光寿命 ,  分解能 ,  *レーザ分光法 ,  気体放電 ,  スペクトル解析
準シソーラス用語： *レーザ誘起破壊分光法 ,  解像度 ,  強度分布 ,  減衰曲線 ,  第二高調波

分類 (2件)： 分光法と分光計一般  (BD07041Q) ,  一般及び無機化合物の蛍光・りん光(分子)  (BH06061R)

タイトルに関連する用語 (4件)： OHラジカル ,  LIF ,  分光 ,  研究