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J-GLOBAL ID：201102217733851634   整理番号：11A0452811

反応性イオンビームスパッタリングによって堆積するスズインジウム酸化膜の構造と表面形態に対する温度効果

Temperature effect on structure and surface morphology of indium tin oxide films deposited by reactive ion-beam sputtering

著者 (1件)： IWATSUBO S
資料名： VACUUM
巻： 80  号： 7  ページ： 708-711  発行年： 2006年 
JST資料番号： O6546A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： 反応性 ,  イオンビームスパッタリング ,  堆積 ,  スズ ,  インジウム ,  酸化膜 ,  表面形態 ,  温度効果