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J-GLOBAL ID:201102218251785827   整理番号:11A0122786

CdSiP2における光パラメトリック生成

Optical parametric generation in CdSiP2
著者 (5件):
資料名:
巻: 35  号: 24  ページ: 4142  発行年: 2010年12月15日 
JST資料番号: H0690A  ISSN: 0146-9592  CODEN: OPLEDP  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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著者らは,100kHzの繰り返し速度における増幅モード同期Nd:YVO4レーザによって1.064μmにおいて励起した新しい非線形材料であるCdSiP2における近赤外および中赤外線のピコ秒パルスの効率的な生成について報告した。タイプI(e→oo)非臨界位相整合に対する8mm長の結晶カットにおけるシングルパス光パラメトリック生成を用いることによって,15%と23%の光子変換効率における6.1Wのポンプに対して,それぞれ,6.204μmにおける154mWの平均アイドラ光強度が1.282μmにおける1.16Wの信号と共に得られた。9psのポンプパルスに対して,6.36psの信号パルス幅が測定された。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固体レーザ  ,  非線形光学 

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