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J-GLOBAL ID:201102221030929825   整理番号:11A0582297

イメージセンシング技術とその応用 サブミクロンプロセスで製造された2次元集積化磁気センサにおける感度特性に関する研究

Investigation of Sensitivity of Two-Dimensional Integrated Magnetic Sensor Fabricated in Sub-micron CMOS Process
著者 (3件):
資料名:
巻: 65  号:ページ: 364-366  発行年: 2011年03月01日 
JST資料番号: F0330A  ISSN: 1342-6907  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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人工心臓では耐久性向上を目指し,磁気浮上型モータを適用することが検討されている.このような磁気浮上系は負のバネ定数を持つため,その実現にはフィードバック制御が不可欠であり,浮上インペラの位置を計測するために複数の磁気センサが必要となる。しかし,デバイスの耐久性,小型化の観点からセンサは可能な限り少なくかつ小さくしたい。このようなスペースの問題を解決し,小型化を実現するために集積化2次元磁気センサシステムが考案されている.このセンサシステムでは,n型MOSトランジスタの反転層の電子にHall効果を起こし,磁束の測定を行う。これまで,磁気センサの微細化のために0.8μmプロセスで製造されたホールセンサに関する研究が行われているが,磁気浮上型モータの制御に必要な分解能を実現するための,より微細なホールセンサに関する研究は行われていない。本研究では,2次元集積化磁気センサの解像度を上げるため,磁気センサの微細化を検討した。そして,CMOS製造プロセスルールを0.35μmから0.18μmに変更する事で微細化を実現した。センサの撮像結果から,0.18μmプロセスで製造した磁気センサによって0.35μmプロセスで製造した磁気センサと同様の磁束分布を測定できることを確認した。さらに,ホール端子の位置を変更することにより,感度を17%上昇可能であることを確認した.以上の結果から,プロセスルールを変更しても2次元集積化磁気センサの感度の低下を招くことなく微細化が可能であることが明らかとなった。
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分類 (1件):
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磁気の計測法・機器 
引用文献 (5件):

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