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J-GLOBAL ID：201102223597916492   整理番号：11A0963698

非晶質炭素の光学的性質とその応用およびフォトニクスにおける見通し

Optical properties of amorphous carbons and their applications and perspectives in photonics

著者 (1件)： PATSALAS P.
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 519  号： 12  ページ： 3990-3996  発行年： 2011年04月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質炭素は多様な光学的性質を示し,相当な機会をフォトニクスのさまざまな応用に対して提供する。新規な光学素子の設計のために考慮されなければならない主な光学物性は,屈折率n,基礎ギャップEg,およびE₀₄ギャップである。この研究において,プラズマ支援化学蒸着,パルスレーザ蒸着,スパッタリング,真空陰極アーク蒸着により成長した非晶質炭素膜の様々な形態の光学特性,およびn,E_gおよびE₀₄を決める重要な構造的,化学的係数がレビューされる。これらの膜の光学的性質に関する知識は,種々の光学素子を設計および実装するために利用される。例えば,1)太陽電池モジュールを含む様々な用途のための反射防止(AR)膜,2)炭素ベースAR層に基づく干渉測定センサとインジケータ,そして3)非晶質炭素のレーザパターン加工とホログラフィー用途のための光感受性の研究である。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *炭素材 ,  光学的性質 ,  *反射防止膜 ,  光センサ ,  光学素子 ,  屈折率 ,  光学ギャップ ,  太陽電池 ,  干渉測定 ,  レーザ加工 ,  ホログラフィー ,  オプトエレクトロニクス ,  *光学材料 ,  光学定数 ,  薄膜
準シソーラス用語： 非晶質炭素 ,  炭素膜

分類 (3件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 非晶質炭素 ,  光学的性質 ,  応用 ,  フォトニクス ,  見通し