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J-GLOBAL ID:201102225393703301   整理番号:11A1180035

HEV応用用極薄400V FS IGBT

Ultrathin 400V FS IGBT for HEV applications
著者 (4件):
資料名:
巻: 23rd  ページ: 64-67  発行年: 2011年 
JST資料番号: W1300A  ISSN: 1943-653X  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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120Vから200VのDCリンク電圧を用いた電気自動車とハイブリッド電気自動車(HEV)用に,40μm薄型ウエハ技術に基づく400V電界阻止絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(FS IGBT)とフリーホイールダイオード(FWD)を開発した。世界で最初の40μmの極薄IGBT試作品の静的と動的特性の評価結果から,オン状態とスイッチング損失は直接チップ厚に依存するため,70μmチップ厚をもつ標準650V素子と比較して,総損失の低減を明らかに示した。また,この極薄新素子は,最大許容破壊電圧を超える電圧オーバーシュートを生じるスイッチング中超高dI/dtを示した。この理由により,新素子の高速スイッチング挙動を利用するため,可能な限り小総浮遊インダクタンスを必要とする。dI/dtを33nHの総浮遊インダクタンスに適応し,同時に損失を低減することにより,IGBTとダイオードのスイッチング挙動を最適化できたIGBTとダイオードのオン状態電圧を約200mV低減できた。さらに,標準の600V素子と比較して,ターンオフエネルギーを10%低減し,ターンオン中IGBTとダイオードの総損失を約10%低減できた。IGBTチップ開発の傾向は,さらに損失を低減し,高速スイッチング挙動を得ることである。そのため,浮遊インダクタンスの低減がモジュール開発の原動力になる必要がある。モジュールの浮遊インダクタンスへのdI/dtの適応化と高速スイッチング素子の最適化が益々重要になり,チップ厚の薄型化との同時実現は困難になる。
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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トランジスタ  ,  電気自動車 
タイトルに関連する用語 (3件):
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